表面科學(xué)與薄膜技術(shù)基礎(chǔ)

目錄
前言
第1章　真空物理基礎(chǔ)　1
1.1　真空基礎(chǔ)知識(shí)　1
1.2　氣體動(dòng)力學(xué)理論　3
1.3　真空獲得　10
1.4　真空測量　19
1.5　真空系統(tǒng)　25
1.6　本章小結(jié)　26
習(xí)題　27
參考文獻(xiàn)　28
第2章　表面科學(xué)基礎(chǔ)　29
2.1　表面和體材料　29
2.2　表面重構(gòu)　33
2.3　表面結(jié)構(gòu)缺陷　37
2.4　表面張力和表面能　40
2.5　表面吸附　43
2.6　表面電子結(jié)構(gòu)　49
2.7　本章小結(jié)　52
習(xí)題　52
參考文獻(xiàn)　52
第3章　薄膜物理基礎(chǔ)　53
3.1　薄膜生長模式　53
3.2　形核的熱力學(xué)模型　55
3.3　形核和生長的動(dòng)力學(xué)過程　61
3.4　團(tuán)簇的聚結(jié)與耗盡　62
3.5　形核與生長的實(shí)驗(yàn)研究　65
3.6　本章小結(jié)　68
習(xí)題　69
參考文獻(xiàn)　69
第4章　熱蒸發(fā)沉積　70
4.1　蒸發(fā)的物理化學(xué)特性　70
4.2　薄膜厚度均勻性和純度　76
4.3　熱蒸發(fā)硬件　82
4.4　熱蒸發(fā)技術(shù)的應(yīng)用　85
4.5　本章小結(jié)　87
習(xí)題　88
參考文獻(xiàn)　88
第5章　濺射鍍膜　89
5.1　等離子體和湯森放電　90
5.2　等離子體中的反應(yīng)　94
5.3　濺射物理　98
5.4　濺射沉積薄膜過程　103
5.5　本章小結(jié)　108
習(xí)題　108
參考文獻(xiàn)　108
第6章　化學(xué)氣相沉積　109
6.1　反應(yīng)類型　110
6.2　CVD熱力學(xué)　113
6.3　氣體輸運(yùn)　114
6.4　熱CVD工藝　118
6.5　等離子體CVD工藝　120
6.6　激光CVD工藝　122
6.7　金屬有機(jī)CVD工藝　123
6.8　本章小結(jié)　124
習(xí)題　124
參考文獻(xiàn)　125
第7章　薄膜結(jié)構(gòu)　126
7.1　薄膜結(jié)構(gòu)演化　126
7.2　熱蒸發(fā)沉積薄膜結(jié)構(gòu)和形貌　129
7.3　濺射鍍膜薄膜結(jié)構(gòu)和形貌　133
7.4　CVD薄膜結(jié)構(gòu)和形貌　136
7.5　本章小結(jié)　137
習(xí)題　138
參考文獻(xiàn)　138
第8章　現(xiàn)代表面分析技術(shù)　139
8.1　X射線光電子能譜　139
8.2　紫外光電子能譜　149
8.3　X射線衍射和低能電子衍射　152
8.4　掃描隧道顯微鏡和原子力顯微鏡　156
8.5　振動(dòng)譜　159
8.6　本章小結(jié)　164
習(xí)題　164
參考文獻(xiàn)　165
第9章　薄膜材料　166
9.1　金剛石薄膜　166
9.2　超硬薄膜　173
9.3　半導(dǎo)體薄膜　178
9.4　磁性存儲(chǔ)薄膜　181
習(xí)題　184
參考文獻(xiàn)　184